网站地图|设为首页|加入收藏
产品导航
服务承诺
当前位置:主页 > 产品中心 > 管式炉 > 多温区管式炉 > 多温区管式炉
1200℃五温区开启式管式电阻炉
1200℃五温区开启式管式电阻炉
型号:KJ-T1200-S8014LK5
用途:高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、质量检测、粉末冶金行业以及义齿加工行业的烘烤、氧化锆盘预烧结等。根据加热区大小,进行小试,中试,批量生产。
规格:1200℃,80mmO.Dx74mmIDx1400mm
特点:五个温控系统单独控制
1600℃三温区管式高温炉
1600℃三温区管式高温炉
型号:KJ-T1600-L6012LB3
用途:用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等
规格:1600℃,Φ60X1200
特点:梯度型三温区,更适合薄膜外生长
1200℃三温区管式气氛炉
1200℃三温区管式气氛炉
型号:KJ-T1200-S6012LK3
用途:高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火
规格:1200℃,60X1200
特点:三个温区独立控温
1200℃双温区高温管式电阻炉
1200℃双温区高温管式电阻炉
型号:KJ-T1200-60-S6008LK2
用途:主要应用于CVD实验,荧光粉制备,真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境
规格:1200℃,Φ60×800mm
特点:两个温区分别由两个独立的温控系统来控制
1400℃双温区真空管式气氛炉
1400℃双温区真空管式气氛炉
型号:KJ-T1400-L6008LB2
用途:广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门,用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等
规格:1400,Φ60X800
特点:真空能保持较长时间,也可以保持微正压
1400℃三温区真空气氛管式炉
1400℃三温区真空气氛管式炉
型号:KJ-1400T-S6010LB3
用途:是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品
规格:1400℃,Φ60mmX1000mm
特点:双层风冷结构;高密度硅碳棒真空挤压成型
1600℃双温区高温气氛管式炉
1600℃双温区高温气氛管式炉
型号:KJ-T1600-L6010LB2
用途:用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等。
规格:1600℃,Φ60×1000mm
特点:双层风冷结构;高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型;30段可编程智能控制(可外接远程控制)
  • 17条记录