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可滑动三温区管式炉
可滑动三温区管式炉
型号:KJ-RTP1400-DZ
用途:应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验,是低成本快速热处理的理想设备。
1400℃五温区管式炉
1400℃五温区管式炉
型号:KJ-T1400-L5015-KQ
用途:通过调节各个温区的温度,可以在加热区内形成四段温度梯度或是形成较长的恒温区域。
1600℃倾斜旋转管式炉
1600℃倾斜旋转管式炉
型号:KJ-T1600-L5015-SWQ
用途:每个温区分别由三个独立温控系统单独控制,通过调节各个温区的温度,可以在加热区内形成温度梯度或是形成较长的恒温区域。
三温区倾斜旋转管式炉
三温区倾斜旋转管式炉
型号:KJ-T1200-F
用途:应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验
1400℃多功能旋转管式炉
1400℃多功能旋转管式炉
型号:KJ-T1400
用途:它是专为烧结无机化合物
1600℃三温区管式高温炉
1600℃三温区管式高温炉
型号:KJ-T1600-L6012LB3
用途:用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等
1600℃双温区高温气氛管式炉
1600℃双温区高温气氛管式炉
型号:KJ-T1600-L6010LB2
用途:用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等。
1400℃三温区真空气氛管式炉
1400℃三温区真空气氛管式炉
型号:KJ-1400T-S6010LB3
用途:是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品
1400℃双温区真空管式气氛炉
1400℃双温区真空管式气氛炉
型号:KJ-T1400-L6008LB2
用途:广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门,用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等
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