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1200℃高校实验坩埚炉
1200℃高校实验坩埚炉
型号:KJ-V1200-LG
用途:煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物,退火或扩散半导体晶片,也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料
规格:1200℃,Φ200×210mm
特点:炉膛保温材料采用整体真空吸附成型,加热元件采用优质硅钼棒
1700℃箱式高温炉
1700℃箱式高温炉
型号:KJ-M1700-8LZ
用途:供合金钢制品、各种金属机件正火、淬火、退火等热处理之用,或金刚石等切割刀片进行高温烧结用途。
规格:1700摄氏度,200x200x200mm
特点:炉内两面辐射方式加热,温度分布均匀。
1200℃快速升温箱式电阻炉
1200℃快速升温箱式电阻炉
型号:KJ-M1200-12LZ
用途:适合需要快速升温的实验场合,尤其适用于煤炭、焦化产品、化工原料的化学分析。
规格:1200℃,200x200x300mm
特点:升温速度极快
1200℃小型陶瓷纤维马弗炉
1200℃小型陶瓷纤维马弗炉
型号:KJ-M1200-1LZ
用途:化学分析、物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解
规格:炉膛有效尺寸:100x100x100mm
特点:发热效率高、耐高温、抗氧化、耐腐蚀、升温快、寿命长
1200度CVD管式炉
1200度CVD管式炉
型号:KJ-1200T-S6012LK1-3F5S
用途:也可用于真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。
规格:根据客户要求定制
特点:升温速度快,使用节能
高真空铝钎焊炉
高真空铝钎焊炉
型号:KJ-V1200-36LG
用途:用于铝及铝合金叶轮、散热器、波导器件、汽车冷凝器等产品的真空钎焊处理,广泛应用于汽车、电子、国防、航天、航空领域。
规格:1200℃,300x300x400mm(更多规格可按照客户要求定制)
特点:温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、价格优惠、节能
1200℃真空退火炉
1200℃真空退火炉
型号:KJ-V1200-36LL-MoLG
用途:主要用于高速钢、冷热作模具钢、不锈钢、弹性合金、高温合金、磁性材料和钛合金的真空热处理以及真空钎焊和真空烧结。
规格:1200℃,300X300X400mm
特点:采用不锈钢骨架,隔热屏为多层石墨毡,使用寿命长,易维护
1200℃三聚氰胺管式炉
1200℃三聚氰胺管式炉
型号:KJ-T1200-S6008LK1-S
用途:CVD工艺,如碳纳米管的研制,三聚氰胺、尿素等化学实验的烧结分析,晶体硅基板镀膜
规格:Φ60×800mm 1200℃
特点:抗氧化、耐腐蚀、升温快;智能PID30段控温,控温精度高
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