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1200℃三聚氰胺管式炉
1200℃三聚氰胺管式炉
型号:KJ-T1200-S6008LK1-S
用途:CVD工艺,如碳纳米管的研制,三聚氰胺、尿素等化学实验的烧结分析,晶体硅基板镀膜
规格:Φ60×800mm 1200℃
特点:抗氧化、耐腐蚀、升温快;智能PID30段控温,控温精度高
1200℃迷你型真空气氛管式炉
1200℃迷你型真空气氛管式炉
型号:KJ-T1200-S50IC
用途:高、中、低温CVD工艺,如碳纳米管的研制,晶体硅基板镀膜
规格:炉管尺寸:Φ50*600mm;温区长度:200mm
特点:采用PID方式调节,可设置30段升降温程序
1200℃立式管式气氛炉
1200℃立式管式气氛炉
型号:KJ-T1200-S5010LK1-L
用途:适合薄膜生长、电极测试、氧化物晶体生长、快速退火等实验
规格:1200℃,Φ50×1000mm
特点:炉体垂直安装在可移动支架上,四面加热,温场更均匀
1600℃小型立式高温管式炉
1600℃小型立式高温管式炉
型号:KJ-T1600-S5006LK1-L
用途:针对粉末表面沉积的CVD实验
规格:1600℃,Φ50×600mm
特点:流化床设计,反应气体和均匀地通过反应区
1200℃五温区开启式管式电阻炉
1200℃五温区开启式管式电阻炉
型号:KJ-T1200-S8014LK5
用途:高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、质量检测、粉末冶金行业以及义齿加工行业的烘烤、氧化锆盘预烧结等。根据加热区大小,进行小试,中试,批量生产。
规格:1200℃,80mmO.Dx74mmIDx1400mm
特点:五个温控系统单独控制
1600℃三温区管式高温炉
1600℃三温区管式高温炉
型号:KJ-T1600-L6012LB3
用途:用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等
规格:1600℃,Φ60X1200
特点:梯度型三温区,更适合薄膜外生长
1600℃真空管式气氛炉
1600℃真空管式气氛炉
型号:KJ-T1600-L6010LB1
用途:粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、质高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火
规格:1600℃,Φ60X1000
特点:炉管下方配有支架,有效防止炉管两端高温变形断裂
1100℃高温高压双管管式炉
1100℃高温高压双管管式炉
型号:KJ-T1100-S6022LC2
用途:超导材料及介电材料的探索研究
规格:炉管尺寸:Φ60×1200mm;恒温区尺寸:180mm
特点:保温性能好,耐用,拉伸强度高,无杂球,纯度高
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