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立式管式炉炉体垂直安装在支撑架上,开启式炉体结构方便取放炉管,采用独特的设计能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温,此款管式炉可以四面加热,温场更加均匀,立式结构使得气体排放更加顺畅,配合真空系统和气路系统,可实现立式CVD工艺,可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体。立式管式炉主要适用于碳纳米管的研制,晶体硅基板镀膜,金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理、薄膜生长、电极测试、氧化物晶体生长、快速退火等实验。
主要特点:
1、开启式结构,方便取放炉管;
2、预留了真空、气路快速接口,可配合真空混气系统使用;
3、加热元件圆周式布置,加热更加均匀;
4、可通过浮子流量计或质子流量计控制气体的流速;
5、超温报警井断电调电保护,操作安全可靠。
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