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管式PECVD等离子气相沉积系统
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产品介绍：
PECVD等离子气相沉积设备是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜, 该系统主要用于金属粉末镀膜中。
管式PECVD等离子气相沉积系统--结构说明
管式PECVD等离子气相沉积系统实拍
设备主要性能优势
1、气密性好
该炉炉管与法兰之间采用O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸，气密性好
2、温场均衡
采用多晶纤维炉膛材料，材料保温性能好、反射率高、温场均衡
3、可旋转、倾斜
该设备主要采用J-T1200旋转管式炉是可倾斜倾斜角0-15°（倾斜角可调）方便进出料；
4、温控保护
具有超温和断偶保护功能
设备主要参数
| 产品名称 | 管式PECVD等离子气相沉积系统(CE认证) |
| 旋转管式炉部分 | |
| 产品型号 | KJ-T1200 |
| 加热区长度 | 660mm（220+220+220mm三温区） |
| 恒温区长度 | 400mm |
| 炉管材质 | 高纯石英管（变径管） |
| 炉管尺寸 | 变径管 两端尺寸OD:80mm* 400mm 中间尺寸OD:150mm* 400mm 总长1200mm 炉管中间部分焊接扬料板 |
| 工作温度 | ≦1100℃ |
| 最高温度 | 1200℃ |
| 测温元件 | 3支K型热电偶分别控温 |
| 温控系统 | 7寸触屏显示，16段可储藏曲线，30段PID微电脑可编程自动控制，能储存和拷贝数据 |
| 保温温控精度 | ±1℃ |
| 温控保护 | 具有超温和断偶保护功能 |
| 升温速率 | 0-20ºC/min |
| 加热元件 | 合金电阻丝 |
| 工作电压 | AC220V 单相50HZ |
| 额定功率 | 5KW（以实际功率为准） |
| 炉膛材料 | 采用多晶纤维炉膛材料，材料保温性能好、反射率高、温场均衡 |
| 密封系统 | 该炉炉管与法兰之间采用O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸，气密性好 |
| 法 兰 | 水冷密封法兰，已安装机械压力表和不锈钢截止阀，方便拆卸，放取材料 |
| 倾斜结构 | 可倾斜倾斜角0-15°（倾斜角可调）方便进出料 |
| 旋转结构 | 可 360 度旋转， 转速0-15转（速度可调） 材料在炉膛内均匀受热 |
| 炉壳温度 | ≤45℃ |
| 真空系统部分 | |
| 名称 | 分子泵组： 旋片泵DRV16+分子泵FF-160/620 |
| 主要参数 | 极限真空度6.7*10-3Pa（包含KF25接口、真空挡板阀和可移动箱体） |
| 真空显示 | 电容隔膜真空规，耐腐蚀，实时显示真空度 |
| 真空显示量程 | 其测量范围为1×105--1×10-5pa |
| 旋转密封 | 磁流体密封，保证旋转过程中还能抽真空 |
| 气路系统部分 | |
| 名称 | 三路质量流量计 |
| 气路 | 三路 |
| 流量控制 | 液晶触摸屏控制，数字显示，每路气体含有针阀单独控制，气体流量自动控制 |
| 进出气口 | 三进一出，内置精密混气罐 |
| 链接方式 | 双卡套接头 |
| 流量范围 | MFC1-MFC3：0-10SLM（量程可选） |
| 控制精度 | ±1.5%F.S左右，量程不同，略有差别 |
| 最大耐压 | 1.1Mpa |
| 工作环境温度 | 5℃-45℃ |
| 等离子射频器部分 | |
| 名称 | 射频自动匹配器 |
| 型号 | VERG-500+VENA-500 |
| 匹配功率范围 | 0-500W |
| 工作频率 | 13.56MHZ+0.005% |
| 正常工作反射功率 | ＜3W |
| 匹配时间 | ＜3S |
| 传输效率 | ＞90% |
| 使用稳定性 | ±1%F.S |
| 匹配器电源 | AC220V/50-60HZ |
| 输入连接器/输出连接器 | N型/UHF |
| 控制模式 | 手动/自动 |
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