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等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是一种利用辉光放电(等离子体)反应生成含有气态物质的薄膜的薄膜生长技术。该系统由高功率射频电源、真空系统、管式炉组成,配备喷淋塔、活性炭箱,满足尾气处理的需要。该设备是为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解、离解和离化,从而大大提高了反应物的活性,这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上,发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜。我公司根据实验要求设计了此设备,设备设计满足各类薄膜研究的需求。
产品优势
PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点
配备喷淋塔、活性炭箱,离心吹扫机等尾气处理装置,满足尾气处理的需要
法兰上带有进出气旋转接头,可以通入氮气、氩气等惰性保护气体,可在气氛环境下使用
安全防护,具有超温保护功能,当温度超过允许设定值后,自动报警保护功能,操作安全可靠
等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜
温控系统采用PID智能化程序控温,自整定功能并可编制多段升降温程序
产品名称 | PECVD |
产品型号 | KJ-T1200-PECVD |
炉膛结构 | 分体式,上部可打开,方便拿取炉管 |
炉管尺寸 | 直径Φ100mm,长1500mm |
加热区长度 | 300mm |
炉管材质 | 石英炉管 |
工作温度 | ≤1100℃ |
最高温度 | 1200℃ |
加热元件 | 含钼电阻丝 |
控温精度 | ±1℃ |
加热速率 | 0-20℃/min, 建议10℃/min,可根据实验工艺进行调节 |
温度测试元件 | N型热电偶 |
控温系统 | 采用智能化多段PID可编程控制 温度控制系统采用人工智能调节技术,具有 PID 调节、自整定功能并可编制多段升降温程序; 1、采用PID 方式调节控温,可设置多段升降温程序 2、控温精度±1ºC 3、具有过温保护 断偶保护过温或断偶时电炉加热电路自动切断 4、仪表具有温度自整定的功能 |
密封方式 | 真空法兰的密封方式,密封效果好 |
冷却方式 | 空气冷却 |
真空系统 | 扩散泵系统: 极限真空:10 -5 ~10 -6 Torr。 管内真空度:10 -3 Torr~10 -4 Torr。 包括旋转泵、扩散泵、真空计、水冷却器、连接管、箱体、阀门 |
等离子电源系统 | 功率范围 0-500W(连续可调) 工作频率 13.56MHZ+0.005% 功率稳定度±1% 最大反射功率 200W |
质量流量计 (液晶触摸屏) |
两台精密质量流量计: MFC 精度为:±1.5% FS 氮气用 MFC 1 :气体流量范围为 0~500sccm 氩气用 MFC 2 :气体流量范围为 0~500sccm |
废气处理装备 | 2套喷淋塔 2套活性炭箱 1台离心吹扫 |
注意事项 | 炉管内气压不可高于0.02MPa · 由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,使用时会更加精确安全 · 当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态 · 进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击 · 石英管的长时间使用温度<1100℃ 不得通入氯化物、硫化物等易腐蚀性气体,易造成法兰等不锈钢件的损坏 对于样品加热的实验 不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。 若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数 若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等) |
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河南鸿炉机械有限公司是一家专业从事电炉产品的研发、生产与销售的高新技术企业。我公司产品具有升温快、节能、温控精度高、保温性能好、微电脑控制、可编程全自动升温降温、炉壁温度接近室温、使用寿命长等特点;产品型号达到上百种,并可根据客户需求定制各式炉型,以满足高校、科研院所和工矿企业做高温烧结、金属退火、气氛还原和质量检测之用,广泛应用于陶瓷、化工、电子、冶金、新材料开发、机械、耐火材料、建材、特种材料等领域的实验和生产,受到广大新老用户的一致好评。
主要产品有箱式马弗炉、管式电阻炉、真空炉、气氛炉、坩埚炉、CVD系统、牙科炉、升降炉、轨道炉、台车炉、退火炉、升降炉、微波烧结炉、烤瓷炉等标准及非标实验电炉和工业电炉,并提供各类电炉配件、加热元件及耐火材料。
鸿炉郑重承诺:每台电炉出厂前均经过严格的质量检测以及高温测试,为客户提供放心可靠的产品!!!
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