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四路高温真空CVD设备

产品型号:KJ-T1200-S60K-4C

主要用途:化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。

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设备介绍

       KJ-T1200-S60K-4C型四路高温真空CVD设备由KJ-T1200滑动式快速退火管式炉+真空系统+供气系统组成 ,最高温度可以达到1200度,极限真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计,可以对多种气体进行准确的混气,然后导入到管式炉内部。快速退火炉炉管两端安装真空法兰,真空度用分子泵可以到10-5Torr,机械泵可到10-3Torr。炉底安装一对滑轨,可用手动滑动。加热和冷却速率可达100°C/m。为取得最快加热,可以预先加热炉子到设定的温度,然后移动炉子到样品位置。为获得最快冷却,可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/s,是低成本快速热处理的理想炉子。G53高温箱式电阻炉,管式炉,真空退火炉,真空烧结炉,管式高温炉-郑州科佳电炉有限公司

 G53高温箱式电阻炉,管式炉,真空退火炉,真空烧结炉,管式高温炉-郑州科佳电炉有限公司

产品优势

  • 可快速加热和降温

    炉底安装一对滑轨,可用手动滑动。加热和冷却速率可达100°C/m

  • 三温区独立控温

    三温区独立控温,可以在加热区内形成温度梯度或是形成较长的恒温区域

  • 智能PID多段程序控温

    控温系统采用PID方式调节,可以设置30段升降温程序,控温精度可以达到±1℃

技术参数

产品名称 四路高温真空CVD设备
产品型号 KJ-T1200-S60K-4C
工作温度 1100°C
最高温度 1200°C
加热速率 建议:0- 10°C/min     {可达0-20℃/min}
加热区 三温区
加热区长度 200+350+200mm
控温精度 ±1°C
炉管直径 OD60mm
炉管长度 大约1200mm-1400mm
真空法兰 两个不锈钢密封法兰,法兰上已经安装数字式真空显示计,和阀门通过机械泵真空压力可以达到5x10-2 torr,泄漏率可达6 mtorr/min
温控 智能PID多段程序控温
加热曲线 30段可编程
功率 4KW
电压 220V,50HZ,单相
质子流量计 4路精密质子流量计:数字显示、气体流量自动控制。
MFC 1范围:  0~100 sccm
MFC 2范围:  0~200 sccm
MFC 3范围:  0~200 sccm
MFC 4范围:  0~500 sccm
气路:4路
流量精度: 0.2%
进气和出气接口: 1/4" 卡套
一个混气罐。
每路气路都有一个独立的不锈钢针阀控制。 
通过控制面板上的旋钮来调节气体流量。


标准配件:

质子混气系统1台、双旋机械泵1台、K型热电偶1支、气炼石英炉管1根、不锈钢法兰1套、不锈钢炉钩1、刚玉炉塞2对、高温手套1副、刚玉坩埚2个、氢气检漏器1个、说明书1份



注:坩埚可按用户需求选配合适的款型

 

 

 

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关于科佳

 

郑州科佳电炉有限公司是一家专业从事电炉产品的研发、生产与销售的高新技术企业。我公司产品具有升温快、节能、温控精度高、保温性能好、微电脑控制、可编程全自动升温降温、炉壁温度接近室温、使用寿命长等特点;产品型号达到上百种,并可根据客户需求定制各式炉型,以满足高校、科研院所和工矿企业做高温烧结、金属退火、气氛还原和质量检测之用,广泛应用于陶瓷、化工、电子、冶金、新材料开发、机械、耐火材料、建材、特种材料等领域的实验和生产,受到广大新老用户的一致好评。

  主要产品有箱式马弗炉、管式电阻炉、真空炉、气氛炉、坩埚炉、CVD系统、牙科炉、升降炉、轨道炉、台车炉、退火炉、升降炉、微波烧结炉、烤瓷炉等标准及非标实验电炉和工业电炉,并提供各类电炉配件、加热元件及耐火材料。

科佳郑重承诺:每台电炉出厂前均经过严格的质量检测以及高温测试,为客户提供放心可靠的产品!!!

 

 

 

 

售后服务

 

 1、我公司对所供设备提供质保一年保修服务(易损件除外),在保修期内因设备质量原因造成的设备损坏或故障,均予以免费维修。保修期满后,仍提供终身的、优质的维修服务。
 2、在设备使用过程中如遇故障的,我公司将尽快做出处理方案,确保设备正常运行。
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