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高真空CVD系统

高真空PECVD设备
高真空PECVD设备
型号:KJ-T1200-S5030-H
用途:主要应用于金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,石墨烯等生长。
定制流化床CVD系统
定制流化床CVD系统
型号:KJ-CVD-DZ
用途:主要用于物料及其复合碳化物等超高熔点涂层化学气相沉积制备工艺的研究。
高温化学气相沉积系统
高温化学气相沉积系统
型号:KJ-T1500CVD-DZ
用途:主要用于TaC、HfC等物料及其复合碳化物等超高熔点涂层化学气相沉积制备工艺的研究。
1200℃高温真空CVD设备
1200℃高温真空CVD设备
型号:KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S
用途:真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领
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