网站地图|设为首页|加入收藏
产品导航
服务承诺
当前位置:主页 > 产品中心 > 化学气相沉积系统(CVD) > 高真空CVD系统 > 高真空CVD系统
1200℃高温真空CVD设备
1200℃高温真空CVD设备
型号:KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S
用途:真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领
规格:根据客户需求定制
特点:快速升降温,可混合4路气体
  • 11条记录