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低真空CVD系统

箱式化学气相沉积系统
箱式化学气相沉积系统
型号:KJ-M1200(1400/1700)-Z
用途:可广泛用于高等院校、科研单位、工矿企业进行:高温实验、材料烧结、成分分析,质量检测等热处理工作。
1200℃双管滑道式CVD系统
1200℃双管滑道式CVD系统
型号:KJ-1200T
用途:应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究.
1200度三温区CVD管式炉
1200度三温区CVD管式炉
型号:KJ-1200T-S60LK3-3FZ
用途:也可用于真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等研究领域。
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